entre le point d’ébullition de l’acide chlorhydrique -80° et celui de l’acide fluorhydrique +19°,4 est trop grande pour qu’il puisse rester une trace d’acide chlorhydrique en présence d’un grand excès d’acide fluorhydrique liquide.
Pour démontrer que le gaz recueilli dans nos expériences n’est pas un mélange d’ozone formé à basse température et de vapeurs d’acide fluorhydrique, on a préparé de l’oxygène ozonisé dans l’appareil de M. Berthelot à une température de -18°. L’effluve était produite au moyen d’une forte bobine, actionnée par 4 éléments Bunsen. L’ozone était amené ensuite dans un petit récipient de platine contenant de l’acide fluorhydrique liquide à -20°. Le mélange gazeux que l’on obtient dans ces conditions n’agit pas sur l’iode, le soufre, le chlorure de potassium fondu ni sur le silicium cristallisé.
Ainsi un mélange d’ozone préparé à -18° et de vapeurs d’acide fluorhydrique ne donne aucune des réactions indiquées plus haut.
Du reste, dans notre électrolyse de l’acide fluorhydrique, nous avons produit souvent un semblable mélange d’ozone et de vapeurs acides lorsque l’acide employé renfermait encore une petite quantité d’eau. Dans ce cas, au début de la décomposition, lorsque, au pôle positif, il se dégageait de l’ozone (ozone obtenu parfois à -50°), jamais le silicium n’a été attaqué.
Dans une de nos expériences, nous avons ajouté une très petite quantité d’eau à l’acide ; aussitôt nous avons eu au pôle positif, à une température de -45°, une abondante production d’ozone, ne ternissant pas le silicium, n’agissant pas à froid sur l’iode, sur le soufre, sur le chlorure de potassium fondu.
L’hypothèse que le gaz actif serait un mélange d’ozone et de vapeurs d’acide fluorhydrique doit donc être écartée.
Ce gaz pourrait être une combinaison d’hydrogène et de fluor plus fluorée que l’acide fluorhydrique. En un mot,
